Diode-Like Current Leakage and Ferroelectric Switching in Silicon SIS Structures with Hafnia-Alumina Nanolaminates
Silicon semiconductor-insulator-semiconductor (SIS) structures with high-k dielectrics are a promising new material for photonic and CMOS integrations. The “diode-like” currents through the symmetric atomic layer deposited (ALD) HfO<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/HfO<sub>2</sub>… nanolayers...
Uloženo v:
| Hlavní autoři: | , , , , , , |
|---|---|
| Médium: | Artigo |
| Jazyk: | Inglês |
| Vydáno: |
MDPI AG
2021-01-01
|
| Edice: | Nanomaterials |
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://www.mdpi.com/2079-4991/11/2/291 |
| Tagy: |
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
