Stitching Interferometry for X-Ray Mirror Metrology at the Hefei Advanced Light Facility (HALF)
The advancements in the 4th-generation synchrotron radiation light sources, characterized by their enhanced coherence and brightness, have led to more stringent requirements for the surface quality of X-ray mirrors used in beamlines. This poses a significant challenge to the metrology of X-ray mirro...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
MDPI AG
2025-11-01
|
| Loạt: | Photonics |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.mdpi.com/2304-6732/12/11/1106 |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|