Plasmonic Characteristics of TiN Layers Deposited by ECWR Assisted MF Magnetron Sputtering

ABSTRACT This study investigates the plasmonic properties of TiN thin films deposited by pulsed mid‐frequency reactive magnetron sputtering combined with RF inductively coupled plasma in a DC magnetic field and electron cyclotron wave resonance (ECWR). The substrate was grounded while the plasma pot...

وصف كامل

التفاصيل البيبلوغرافية

المؤلفون الرئيسيون:	Libor Nožka, Miroslav Hrabovský, Zdenek Hubička, Aneta Písaříková, Jan Krajczewski, Petr Schovánek, Jan Tomáštík, Lukas Václavek
التنسيق:	Artigo
اللغة:	Inglês
منشور في:	Wiley-VCH 2026-01-01
سلاسل:	Advanced Physics Research
الموضوعات:	ECWR magnetron sputtering plasmonics
الوصول للمادة أونلاين:	https://doi.org/10.1002/apxr.202500166
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!