Role of Nitrogen and Yttrium Contents in Manufacturing (Cr, Y)N_x Film Nanostructures

The high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) technique was applied to deposit multilayer-like (Cr, Y)N_x coatings on AISI 304L stainless steel, using pendular substrate oscillation and a Cr-Y target and varying the nitrogen flow rate from 10 to 50 sccm. The microstructure, mechanic...

ver descrição completa

Detalhes bibliográficos

Principais autores:	Raira Chefer Apolinario, Alisson Mendes Rodrigues, Pedro Renato Tavares Avila, Júlia Nascimento Pereira, Carlos Alberto Ospina Ramirez, Philipp Daum, Fabiana Pereira da Costa, Hélio de Lucena Lira, Gelmires de Araújo Neves, Christian Greiner, Haroldo Cavalcanti Pinto
Formato:	Artigo
Idioma:	Inglês
Publicado em:	MDPI AG 2022-07-01
Colecção:	Nanomaterials
Assuntos:	(Cr, Y)N<sub>x</sub> HiPIMS nitrogen flow rate wear protection
Acesso em linha:	https://www.mdpi.com/2079-4991/12/14/2410
Tags:	Adicionar Tag Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!