High Oxygen Sensitivity of TiO<sub>2</sub> Thin Films Deposited by ALD
The gas sensitivity and structural properties of TiO<sub>2</sub> thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition (ALD) were examined in detail. The TiO<sub>2</sub> thin films are deposited using Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) and oxygen plasma at 300 °C on SiO<sub>2</sub> substr...
Збережено в:
| Автори: | , , , , , |
|---|---|
| Формат: | Artigo |
| Мова: | Inglês |
| Опубліковано: |
MDPI AG
2023-09-01
|
| Серія: | Micromachines |
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | https://www.mdpi.com/2072-666X/14/10/1875 |
| Теги: |
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|