Photometric control system for the etching rate of thin dielectric films
A methodology for photometric control of the etching rate of thin dielectric films is proposed, the essence of which consists in applying methods of double differentiation and time intervals to the signal of a photometric measuring device. An automated photometric system implementing this methodolog...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Politekhperiodika
2006-02-01
|
| মালা: | Технологія та конструювання в електронній апаратурі |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/991 |
| ট্যাগগুলো: |
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|