Caracterización estructural y óptica de compósitos ZnO-SiOx obtenidos por la técnica Cat-CVD
Se obtuvieron compósitos de óxido de Zinc-óxido de Silicio fuera de estequiometría (ZnO-SiOx) por la técnica de depósito químico en fase vapor catalítico (Cat-CVD) a una temperatura de depósito de 950 0C. Los experimentos se llevaron a cabo en el rango de 800-1100 0C. Del análisis por difracción de...
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| Опубликовано в:: | Superficies y vacío |
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| Главные авторы: | , , , , , |
| Формат: | Artigo |
| Язык: | Espanhol |
| Опубликовано: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2011
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| Online-ссылка: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94219993001 |
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