Caracterización eléctrica de películas delgadas de WO3 depositadas por sputtering no reactivo
Se depositaron películas delgadas de trióxido de tungsteno sobre vidrio por la técnica de erosión catódica, variando la presión de trabajo, PAr, desde 20 hasta 80 mTorr. La morfología superficial de las películas preparadas resultó ser muy similar independientemente de la presión de trabajo utilizad...
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| Εκδόθηκε σε: | Ingeniería |
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| Κύριοι συγγραφείς: | , , , |
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Espanhol |
| Έκδοση: |
Universidad Autónoma de Yucatán
2012
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| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46724109004 |
| Ετικέτες: |
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