Análisis AES y XPS de películas delgadas de oxidos de CdTe crecidas por sputtering en Ar-N2O
Se crecieron por rf sputtering sobre substratos de vidrio películas de óxidos de CdTe usando un plasma controlado de Ar-N2O. Las películas fueron estudiadas mediante la espectroscopia electrónica Auger (AES) y la espectroscopia defotoelectrones de rayos X (XPS). En los perfiles de concentración Auge...
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| Publicado no: | Superficies y vacío |
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| Principais autores: | , , , , |
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Espanhol |
| Publicado em: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2002
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201508 |
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