QR kód

Ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 Thin Films for DRAM’s Applications

Ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 thin films were deposited by pulsed laser ablation on SiO2/Si, RuO2/Ta/SiO2/Si and Pt/Ti/SiO2/Si substrates. The films were weakly crystalline in the as deposited condition and subsequent crystallization was induced by annealing the films in the range of 550-650ºC. The BST...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Superficies y vacío
Hlavní autoři: G.A. Hirata, L.L. López, J. M. Siqueiros, J. McKittrick
Médium: Artigo
Jazyk:Inglês
Vydáno: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
Témata:
On-line přístup:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200938
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!