Ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 Thin Films for DRAM’s Applications

Ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 thin films were deposited by pulsed laser ablation on SiO2/Si, RuO2/Ta/SiO2/Si and Pt/Ti/SiO2/Si substrates. The films were weakly crystalline in the as deposited condition and subsequent crystallization was induced by annealing the films in the range of 550-650ºC. The BST...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:Superficies y vacío
المؤلفون الرئيسيون: G.A. Hirata, L.L. López, J. M. Siqueiros, J. McKittrick
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
الموضوعات:
Física, Astronomía y Matemáticas
ferroelectric films
pulsed laser ablation
الوصول للمادة أونلاين:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200938
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة