Crecimiento de películas delgadas de nitruro de carbono por deposicion con láser pulsado.
Hemos crecido películas delgadas de nitruro de carbono (CNx) mediante elDeposición por Láser Pulsado (DLP), usando como blanco grafito de alta purezay como substrato silicio. Las películas fueron crecidas en un ambiente de gas denitrógeno, variando la presión del gas, para dos valores de la fluencia...
Պահպանված է:
| Հրատարակված է: | Scientia Et Technica |
|---|---|
| Հիմնական հեղինակներ: | , , |
| Ձևաչափ: | Artigo |
| Լեզու: | Espanhol |
| Հրապարակվել է: |
Universidad Tecnológica de Pereira
2007
|
| Խորագրեր: | |
| Առցանց հասանելիություն: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84903624 |
| Ցուցիչներ: |
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
|