Ion beam analysis of CH/Si layers deposited by ECR-CVD

We present in this study the characteristics of CH layers deposited on Si substrates using an electron cyclotron resonance (ECR) microwaveplasma source with different H2/CH4 mixtures. Quantification of the hydrogen and carbon content and the thickness of the films wasdetermined by Forward Elastic Sc...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Revista Mexicana de Física
Main Authors: J.A. Mejía Hernández, S. Muhl, G. Murillo, R. Policroniades, E. Andrade, E.P. Zavala, E. Camps
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Assuntos:
Física, Astronomía y Matemáticas
thin films
IBA methods
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Acesso em linha:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57066315
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