Caracterización de capacitores MOS basados en peliculas de oxido de hafnio obtenidas a 150°C
En este trabajo, se describe la fabricaci ́ on y caracterizaci ́ on de capacitores MOS con ́ oxido de hafnio como diel ́ ectrico obtenido a 150 ± C. La obtenci ́ on de pel ́ ıculas delgadas de ́ oxido de hafnio se realiz ́ o mediante spin-coating con un tratamiento t ́ ermico a 150 ± C. Los...
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| Publicado no: | Revista Mexicana de Física |
|---|---|
| Principais autores: | , , |
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Espanhol |
| Publicado em: |
Sociedad Mexicana de Física A.C.
2016
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57048164016 |
| Tags: |
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