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Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering

En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante la técnica rf-sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti3Al en una cámara con atmósfera de Ar-O2. Las películas de Ti-Al-O fueron obtenidas varian...

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Dettagli Bibliografici
Pubblicato in:Revista Mexicana de Física
Autori principali: J.A. Montes de Oca, J. Ceballos-Alvarez, J. Galaviz-Pérez, J.-P. Manaud, M. Lahaye, J. Muñoz-Saldaña
Natura: Artigo
Lingua:Espanhol
Pubblicazione: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2010
Soggetti:
Accesso online:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016006004
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