Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering
En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante la técnica rf-sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti3Al en una cámara con atmósfera de Ar-O2. Las películas de Ti-Al-O fueron obtenidas varian...
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| Publicat a: | Revista Mexicana de Física |
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| Autors principals: | , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Idioma: | Espanhol |
| Publicat: |
Sociedad Mexicana de Física A.C.
2010
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| Accés en línia: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016006004 |
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