Commentary: A stitch too far

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Publié dans:JTCVS Tech
Auteur principal: Sako, Edward Y.
Format: Artigo
Langue:Inglês
Publié: Elsevier 2020
Sujets:
Commentary
Accès en ligne:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC8308263/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/34317984
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1016/j.xjtc.2020.10.018
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