लोड हो रहा है...
Infinite Selectivity of Wet SiO(2) Etching in Respect to Al
We propose and demonstrate an unconventional method suitable for releasing microelectromechanical systems devices containing an Al layer by wet etching using SiO(2) as a sacrificial layer. We used 48% HF solution in combination with 20% oleum to keep the HF solution water-free and thus to prevent at...
में बचाया:
| में प्रकाशित: | Micromachines (Basel) |
|---|---|
| मुख्य लेखकों: | , , , |
| स्वरूप: | Artigo |
| भाषा: | Inglês |
| प्रकाशित: |
MDPI
2020
|
| विषय: | |
| ऑनलाइन पहुंच: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7230285/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32244504 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/mi11040365 |
| टैग : |
टैग जोड़ें
कोई टैग नहीं, इस रिकॉर्ड को टैग करने वाले पहले व्यक्ति बनें!
|