Ładuje się......
Electrochemical Nanolithography on Silicon: An Easy and Scalable Method to Control Pore Formation at the Nanoscale
Lithography on a sub-100 nm scale is beyond the diffraction limits of standard optical lithography but is nonetheless a key step in many modern technological applications. At this length scale, there are several possible approaches that require either the preliminary surface deposition of materials...
Zapisane w:
| Wydane w: | Materials (Basel) |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
MDPI
2019
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6766228/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31500223 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/ma12182891 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|