Ładuje się......
Fast Semiconductor–Metal Bidirectional Transition by Flame Chemical Vapor Deposition
[Image: see text] A simple yet powerful flame chemical vapor deposition technique is proposed that allows free control of the surface morphology, microstructure, and composition of existing materials with regard to various functionalities within a short process time (in seconds) at room temperature...
Zapisane w:
| Wydane w: | ACS Omega |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
American Chemical Society
2019
|
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6682083/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31460291 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.9b01112 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|