Φορτώνει......
Fast Semiconductor–Metal Bidirectional Transition by Flame Chemical Vapor Deposition
[Image: see text] A simple yet powerful flame chemical vapor deposition technique is proposed that allows free control of the surface morphology, microstructure, and composition of existing materials with regard to various functionalities within a short process time (in seconds) at room temperature...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Τόπος έκδοσης: | ACS Omega |
|---|---|
| Κύριοι συγγραφείς: | , , , , , , , |
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
American Chemical Society
2019
|
| Διαθέσιμο Online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6682083/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31460291 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsomega.9b01112 |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|