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Resistive Switching Characteristics of Li-Doped ZnO Thin Films Based on Magnetron Sputtering

A kind of devices Pt/Ag/ZnO:Li/Pt/Ti with high resistive switching behaviors were prepared on a SiO(2)/Si substrate by using magnetron sputtering method and mask technology, composed of a bottom electrode (BE) of Pt/Ti, a resistive switching layer of ZnO:Li thin film and a top electrode (TE) of Pt/A...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Materials (Basel)
Main Authors: Zhao, Xiaofeng, Li, Yi, Ai, Chunpeng, Wen, Dianzhong
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: MDPI 2019
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6515171/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31003535
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/ma12081282
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