טוען...
Sputtering of silicon nanopowders by an argon cluster ion beam
In this work an Ar(+) cluster ion beam with energy in the range of 10–70 keV and dose of 7.2 × 10(14)–2.3 × 10(16) cluster/cm(2) was used to irradiate pressed Si nanopowder targets consisting of particles with a mean diameter of 60 nm. The influence of the target density and the cluster ion beam par...
שמור ב:
| הוצא לאור ב: | Beilstein J Nanotechnol |
|---|---|
| Main Authors: | , , , , , , , |
| פורמט: | Artigo |
| שפה: | Inglês |
| יצא לאור: |
Beilstein-Institut
2019
|
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6334788/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30680286 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3762/bjnano.10.13 |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|