Ładuje się......

Self-organized growth of graphene nanomesh with increased gas sensitivity

A bottom-up chemical vapor deposition (CVD) process for the growth of graphene nanomesh films is demonstrated. The process relies on silicon nanospheres to block nucleation sites for graphene CVD on copper substrates. These spheres are formed in a self-organized way through silicon diffusion through...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Wydane w:Nanoscale
Główni autorzy: König, Matthias, Ruhl, Günther, Batke, Joerg-Martin, Lemme, Max C.
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: Royal Society of Chemistry 2016
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5314685/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27523310
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1039/c6nr03954e
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!