Đang tải...
High speed e-beam writing for large area photonic nanostructures — a choice of parameters
Photonic nanostructures are used for many optical systems and applications. However, some high-end applications require the use of electron-beam lithography (EBL) to generate such nanostructures. An important technological bottleneck is the exposure time of the EBL systems, which can exceed 24 hours...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Sci Rep |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , , , , , , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Nature Publishing Group
2016
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5025733/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27633902 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep32945 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|