লোডিং...
Perfluorodecyltrichlorosilane-based seed-layer for improved chemical vapour deposition of ultrathin hafnium dioxide films on graphene
We investigate the use of perfluorodecyltrichlorosilane-based self-assembled monolayer as seeding layer for chemical vapour deposition of HfO(2) on large area CVD graphene. The deposition and evolution of the FDTS-based seed layer is investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron s...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | Sci Rep |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , , , , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Nature Publishing Group
2016
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4933886/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27381715 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep29223 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|