تحميل...
The Enhanced Light Absorptance and Device Application of Nanostructured Black Silicon Fabricated by Metal-assisted Chemical Etching
We use metal-assisted chemical etching (MCE) method to fabricate nanostructured black silicon on the surface of C-Si. The Si-PIN photoelectronic detector based on this type of black silicon shows excellent device performance with a responsivity of 0.57 A/W at 1060 nm. Silicon nanocone arrays can be...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Springer US
2016
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4930436/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27368764 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-016-1528-0 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|