Top-Down Nanofabrication and Characterization of 20 nm Silicon Nanowires for Biosensing Applications

A top-down nanofabrication approach is used to develop silicon nanowires from silicon-on-insulator (SOI) wafers and involves direct-write electron beam lithography (EBL), inductively coupled plasma-reactive ion etching (ICP-RIE) and a size reduction process. To achieve nanometer scale size, the cruc...

Πλήρης περιγραφή

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Τόπος έκδοσης:PLoS One
Κύριοι συγγραφείς: M. N, M. Nuzaihan, Hashim, U., Md Arshad, M. K., Ruslinda, A. Rahim, Rahman, S. F. A., Fathil, M. F. M., Ismail, Mohd. H.
Μορφή: Artigo
Γλώσσα:Inglês
Έκδοση: Public Library of Science 2016
Θέματα:
Research Article
Διαθέσιμο Online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4811568/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27022732
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1371/journal.pone.0152318
Ετικέτες: Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!

Παρόμοια τεκμήρια