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Top-Down Nanofabrication and Characterization of 20 nm Silicon Nanowires for Biosensing Applications

A top-down nanofabrication approach is used to develop silicon nanowires from silicon-on-insulator (SOI) wafers and involves direct-write electron beam lithography (EBL), inductively coupled plasma-reactive ion etching (ICP-RIE) and a size reduction process. To achieve nanometer scale size, the cruc...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:PLoS One
Main Authors: M. N, M. Nuzaihan, Hashim, U., Md Arshad, M. K., Ruslinda, A. Rahim, Rahman, S. F. A., Fathil, M. F. M., Ismail, Mohd. H.
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Public Library of Science 2016
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4811568/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27022732
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1371/journal.pone.0152318
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