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Fabrication of 3-nm-thick Si(3)N(4) membranes for solid-state nanopores using the poly-Si sacrificial layer process

To improve the spatial resolution of solid-state nanopores, thinning the membrane is a very important issue. The most commonly used membrane material for solid-state nanopores is silicon nitride (Si(3)N(4)). However, until now, stable wafer-scale fabrication of Si(3)N(4) membranes with a thickness o...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Sci Rep
Main Authors: Yanagi, Itaru, Ishida, Takeshi, Fujisaki, Koji, Takeda, Ken-ichi
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Nature Publishing Group 2015
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4589763/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/26424588
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep14656
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