In Situ Observations during Chemical Vapor Deposition of Hexagonal Boron Nitride on Polycrystalline Copper

[Image: see text] Using a combination of complementary in situ X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction, we study the fundamental mechanisms underlying the chemical vapor deposition (CVD) of hexagonal boron nitride (h-BN) on polycrystalline Cu. The nucleation and growth of h-BN layers...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Xuất bản năm:Chem Mater
Những tác giả chính: Kidambi, Piran R., Blume, Raoul, Kling, Jens, Wagner, Jakob B., Baehtz, Carsten, Weatherup, Robert S., Schloegl, Robert, Bayer, Bernhard C., Hofmann, Stephan
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: American Chemical Society 2014
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4311958/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25673919
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/cm502603n
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Những quyển sách tương tự