Ładuje się......

Purification of silicon powder by the formation of thin porous layer followed byphoto-thermal annealing

Porous silicon has been prepared using a vapor-etching based technique on a commercial silicon powder. Strong visible emission was observed in all samples. Obtained silicon powder with a thin porous layer at the surface was subjected to a photo-thermal annealing at different temperatures under oxyge...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Khalifa, Marouan, Hajji, Messaoud, Ezzaouia, Hatem
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: Springer 2012
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3475061/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/22873706
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-7-444
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!