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Focused ion beam induced deflections of freestanding thin films

Prominent deflections are shown to occur in freestanding silicon nitride thin membranes when exposed to a 50 keV gallium focused ion beam for ion doses between 10(14) and 10(17) ions/cm(2). Atomic force microscope topographs were used to quantify elevations on the irradiated side and corresponding d...

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Detalhes bibliográficos
Main Authors: Kim, Y.-R., Chen, P., Aziz, M. J., Branton, D., Vlassak, J. J.
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: 2006
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3319714/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/22485053
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1063/1.2363900
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