Đang tải...
Suppression of transient enhanced diffusion in sub-micron patterned silicon template by dislocation loops formation
We investigate the evolution of two dimensional transient enhanced diffusion (TED) of phosphorus in sub-micron scale patterned silicon template. Samples doped with low dose phosphorus with and without high dose silicon self-implantation, were annealed for various durations. Dopant diffusion is probe...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
AIP Publishing LLC
2015-10-01
|
| Loạt: | AIP Advances |
| Truy cập trực tuyến: | http://dx.doi.org/10.1063/1.4934674 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|