Effects of Negative Bias Voltage and Ratio of Nitrogen and Argon on the Structure and Properties of NbN Coatings Deposited by HiPIMS Deposition System

The NbNx>1 coatings were deposited on Si wafer and SUS 304 stainless steel substrates by a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) system at various bias voltages and the ratios of nitrogen and argon (N2/Ar). By virtue of electron probe microanalysis (EPMA), X-ray diffraction pattern...

Szczegółowa specyfikacja

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
Główni autorzy: Jicheng Ding, Tengfei Zhang, Haijuan Mei, Je Moon Yun, Seong Hee Jeong, Qimin Wang, Kwang Ho Kim
Format: Artigo
Język:Inglês
Wydane: MDPI AG 2017-12-01
Seria:Coatings
Hasła przedmiotowe:
NbNx&gt
1 coating
HiPIMS
bias voltage
N2/Ar ratio
microstructure
mechanical properties
Dostęp online:https://www.mdpi.com/2079-6412/8/1/10
Etykiety: Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!

Podobne zapisy