Micro-Nano Machining TiO<sub>2</sub> Patterns without Residual Layer by Unconventional Imprinting
Usually, the residual layer remains after patterning TiO<sub>2</sub> sol. The existence of the TiO<sub>2</sub> residual layer in the non-pattern region affects its application in microelectronic devices. Here, a simple method, based on room-temperature imprinting, to fabricate a residual-free TiO<su...
Na minha lista:
| Principais autores: | , , , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
MDPI AG
2021-10-01
|
| coleção: | Applied Sciences |
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://www.mdpi.com/2076-3417/11/21/10097 |
| Tags: |
Sem tags, seja o primeiro a adicionar uma tag!
|