Atomic Layer Deposition of Buffer Layers for the Growth of Vertically Aligned Carbon Nanotube Arrays

Abstract Vertically aligned carbon nanotube arrays (VACNTs) show a great potential for various applications, such as thermal interface materials (TIMs). Besides the thermally oxidized SiO2, atomic layer deposition (ALD) was also used to synthesize oxide buffer layers before the deposition of the cat...

وصف كامل

التفاصيل البيبلوغرافية

المؤلفون الرئيسيون:	Hao-Hao Li, Guang-Jie Yuan, Bo Shan, Xiao-Xin Zhang, Hong-Ping Ma, Ying-Zhong Tian, Hong-Liang Lu, Johan Liu
التنسيق:	Artigo
اللغة:	Inglês
منشور في:	SpringerOpen 2019-04-01
سلاسل:	Nanoscale Research Letters
الموضوعات:	Atomic layer deposition Vertically aligned carbon nanotube arrays Oxide buffer layers Thermal interface materials
الوصول للمادة أونلاين:	http://link.springer.com/article/10.1186/s11671-019-2947-5
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!