Self-Diffusion of Ge in Amorphous GexSi1–x Films Studied In Situ by Neutron Reflectometry
Guardado en:
| Autores principales: | , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Lenguaje: | Inglês |
| Publicado: |
American Chemical Society
2024-07-01
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| Colección: | ACS Materials Au |
| Acceso en línea: | https://doi.org/10.1021/acsmaterialsau.4c00046 |
| Etiquetas: |
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