杯状纵磁真空灭弧室三维纵向磁场及涡流的有限元分析
对杯状纵磁真空灭弧室的三维静磁场、三维交变磁场及触头片中的涡流分布进行了有限元计算和分析。计算结果表明，交变磁场的分布与静磁场的分布有所不同，这主要是由涡流引起的。涡流的影响在触头中心处最大，在槽口之间次之，在槽口上方影响最小。
Bewaard in:
| Hoofdauteurs: | , , , |
|---|---|
| Formaat: | Artigo |
| Taal: | Chinês |
| Gepubliceerd in: |
Editorial Department of High Voltage Apparatus
2000-01-01
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| Reeks: | Gaoya dianqi |
| Onderwerpen: | |
| Online toegang: | http://www.zgydq.com/zh/article/doi/10.13296/j.1001-1609.hva.2000.02.005/ |
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