126kV真空灭弧室3/4匝纵向磁场触头磁场特性及电弧形态研究
文中针对一种126 kV真空灭弧室3/4匝线圈型纵磁触头,采用电磁仿真分析及拉弧试验方式对其磁场特性及真空电弧形态进行研究。选择3种触头片开槽位置以及3种触头电流连通位置、有无导流排结构,共8种结构进行磁场强度与分布、触头回路电阻的对比,选择当触头电流连通位置对应时,触头片开槽位置在左侧(结构2)与开槽位置在右侧(结构3)的无导流排及有导流排的两种结构进行电弧试验,试验电流为40 k A(rms),燃弧时间为9 ms。分析及试验结果表明,当开槽位置在右边,磁场强度较强且均匀,真空电弧扩散态模式持续时间较。在第2个电流半波峰值时,有导流排的结构的触头之间的电弧集聚更强烈,阳极射流开始形成至阴极区...
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| 主要な著者: | , , , , , |
|---|---|
| フォーマット: | Artigo |
| 言語: | Chinês |
| 出版事項: |
Editorial Department of High Voltage Apparatus
2017-01-01
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| シリーズ: | Gaoya dianqi |
| 主題: | |
| オンライン・アクセス: | http://www.zgydq.com/zh/article/doi/10.13296/j.1001-1609.hva.2017.03.011/ |
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