QR குறியீடு

Observation of tantalum deposition and growth on TiB2 and ZrB2 from PISCES-RF deuterium and helium plasma exposures

Deuterium and helium plasma exposures on bulk TiB2 and ZrB2 samples were performed using the PISCES-RF linear plasma device. 40 and 90 eV deuterium ion plasma exposures were performed at 240 and 800 °C sample temperatures, and 80 eV helium ion plasma exposures were performed at 800 °C sample tempera...

முழு விளக்கம்

சேமிக்கப்பட்டது:
நூற்பட்டியல் விவரங்கள்
முதன்மை ஆசிரியர்கள்: L. Nuckols, C.M. Parish, M.J. Baldwin, H.M. Meyer, III, D. Nishijima, M.I. Patino, J. Rapp
வடிவம்: Artigo
மொழி:Inglês
வெளியிடப்பட்டது: Elsevier 2024-06-01
தொடர்:Nuclear Materials and Energy
பொருள்கள்:
ஆன்லைன் அணுகல்:http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2352179124000644
குறிச்சொற்கள்: குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும்
டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!