Preparation and Characterization of NiO Thin Films by DC Reactive Magnetron Sputtering

Nickel oxide (NiO) thin films were successfully deposited on Corning 7059 glass substrates at different oxygen partial pressures in the range of 1 × 10 – 4 to 9 × 10 – 4 mbar using dc reactive magnetron sputtering technique. Structural properties of NiO films showed polycrystalline nature with cubic...

Descripció completa

Dades bibliogràfiques

Autors principals:	Y. Ashok Kumar Reddy, A. Mallikarjuna Reddy, A. Sivasankar Reddy, P. Sreedhara Reddy
Format:	Artigo
Idioma:	Inglês
Publicat:	Sumy State University 2012-12-01
Col·lecció:	Журнал нано- та електронної фізики
Matèries:	Sputtering NiO thin films Structural properties Optical properties Electrical properties Oxygen partial pressur
Accés en línia:	http://jnep.sumdu.edu.ua/download/numbers/2012/4/articles/jnep_2012_V4_04002.pdf
Etiquetes:	Afegir etiqueta Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!