Preparation and Characterization of NiO Thin Films by DC Reactive Magnetron Sputtering

Nickel oxide (NiO) thin films were successfully deposited on Corning 7059 glass substrates at different oxygen partial pressures in the range of 1 × 10 – 4 to 9 × 10 – 4 mbar using dc reactive magnetron sputtering technique. Structural properties of NiO films showed polycrystalline nature with cubic...

תיאור מלא

מידע ביבליוגרפי

Principais autores:	Y. Ashok Kumar Reddy, A. Mallikarjuna Reddy, A. Sivasankar Reddy, P. Sreedhara Reddy
פורמט:	Artigo
שפה:	Inglês
יצא לאור:	Sumy State University 2012-12-01
סדרה:	Журнал нано- та електронної фізики
נושאים:	Sputtering NiO thin films Structural properties Optical properties Electrical properties Oxygen partial pressur
גישה מקוונת:	http://jnep.sumdu.edu.ua/download/numbers/2012/4/articles/jnep_2012_V4_04002.pdf
תגים:	הוספת תג אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!