QR код

Magnetoresistance ratio in magnetic tunnel junction with silicon diffused MgO barrier

We demonstrated a magnetic tunnel junction (MTJ) consisting of Fe/MgO-Si-MgO/Fe. Si layer was deposited at room temperature and at 700 °C; when deposited at 700 °C, Si diffused into the MgO layer. The MTJ with silicon deposited at 700 °C attained high MR ratios of up to 38.7 and 2.9% at t _Si = 0.19...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Автори: Tatsuki Watanabe, Minori Goto, Yuichiro Ando, Tsubasa Watakabe, Hikaru Nomura, Yoshishige Suzuki
Формат: Artigo
Мова:Inglês
Опубліковано: IOP Publishing 2023-01-01
Серія:Applied Physics Express
Предмети:
Онлайн доступ:https://doi.org/10.35848/1882-0786/ad0ba1
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!