Omnidirectional and Broadband Antireflection Effect with Tapered Silicon Nanostructures Fabricated with Low-Cost and Large-Area Capable Nanosphere Lithography

In this report, we present a process for the fabrication and tapering of a silicon (Si) nanopillar (NP) array on a large Si surface area wafer (2-inch diameter) to provide enhanced light harvesting for Si solar cell application. From our <i>N</i>,<i>N</i>-dimethyl-formamide (DMF) solvent-controlled...

Mô tả đầy đủ

Chi tiết về thư mục

Những tác giả chính:	Sangho Kim, Gwan Seung Jeong, Na Yeon Park, Jea-Young Choi
Định dạng:	Artigo
Ngôn ngữ:	Inglês
Được phát hành:	MDPI AG 2021-01-01
Loạt:	Micromachines
Những chủ đề:	nanostructure gradient refractive index change antireflection spin-coating solar cell
Truy cập trực tuyến:	https://www.mdpi.com/2072-666X/12/2/119
Các nhãn:	Thêm thẻ Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!