Controllable Fabrication of Non-Close-Packed Colloidal Nanoparticle Arrays by Ion Beam Etching

Abstract Polystyrene (PS) nanoparticle films with non-close-packed arrays were prepared by using ion beam etching technology. The effects of etching time, beam current, and voltage on the size reduction of PS particles were well investigated. A slow etching rate, about 9.2 nm/min, is obtained for th...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Główni autorzy:	Jie Yang, Mingling Zhang, Xu Lan, Xiaokang Weng, Qijiang Shu, Rongfei Wang, Feng Qiu, Chong Wang, Yu Yang
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	SpringerOpen 2018-06-01
Seria:	Nanoscale Research Letters
Hasła przedmiotowe:	Ion beam etching Polystyrene nanoparticles Nanosphere lithography Si nanopillar arrays
Dostęp online:	http://link.springer.com/article/10.1186/s11671-018-2586-2
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!