Diffusion Processes And Interface Electron Scattering In Film Systems Based On Cu/Fe AND Fe/Cr
Investigation results of diffusion processes by the SIMS and the AES methods in Cu/Fe and Fe/Cr film systems are represented; influence of the annealing temperature on the effective thermal diffusion coefficients is studied. Values of the interface transmission coefficient and the effective diffusio...
சேமிக்கப்பட்டது:
| முதன்மை ஆசிரியர்கள்: | , , |
|---|---|
| வடிவம்: | Artigo |
| மொழி: | Inglês |
| வெளியிடப்பட்டது: |
Sumy State University
2009-01-01
|
| தொடர்: | Журнал нано- та електронної фізики |
| பொருள்கள்: | |
| ஆன்லைன் அணுகல்: | http://jnep.sumdu.edu.ua/download/numbers/2009/2/articles/en/jnep_eng_2009_V1_N2_79-89.pdf |
| குறிச்சொற்கள்: |
டாக்ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!
|