Nano- to atomic-scale epitaxial aluminum films on Si substrate grown by molecular beam epitaxy
We demonstrate nano- to atomic-scale epitaxial aluminum film growth on Si(111) substrate by molecular beam epitaxy. Excellent quality of these aluminum films, including sub-nanometer surface roughness, narrow linewidth of X-ray diffraction peak, clear transmission electron diffraction, and high opti...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , , , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
AIP Publishing LLC
2019-10-01
|
| মালা: | AIP Advances |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://dx.doi.org/10.1063/1.5116044 |
| ট্যাগগুলো: |
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|