Atomic Layer Deposition of AgX (X = Cl, Br, I) Thin Films
Gardado en:
| Principais autores: | , , , , , , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado: |
American Chemical Society
2025-11-01
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| Series: | ACS Omega |
| Acceso en liña: | https://doi.org/10.1021/acsomega.5c06913 |
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