Author Correction: Improved oxidation behavior of Hf0.11Al0.20B0.69 in comparison to Hf0.28B0.72 magnetron sputtered thin films
Αποθηκεύτηκε σε:
| Κύριοι συγγραφείς: | , , , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Nature Portfolio
2024-10-01
|
| Σειρά: | Scientific Reports |
| Διαθέσιμο Online: | https://doi.org/10.1038/s41598-024-75854-8 |
| Ετικέτες: |
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|