Author Correction: Improved oxidation behavior of Hf0.11Al0.20B0.69 in comparison to Hf0.28B0.72 magnetron sputtered thin films
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| Principais autores: | , , , , , , , , , , , , , |
|---|---|
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
Nature Portfolio
2024-10-01
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| Colecção: | Scientific Reports |
| Acesso em linha: | https://doi.org/10.1038/s41598-024-75854-8 |
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